该晶圆加工厂最靠近华东位置位置，具体产出8厘米半导体设备晶圆，平均废水处理排污量约800吨。根据产出阶段中利用一大批氢佛酸参与晶圆蚀刻，造成废水处理中氟化物密度高达到200-300mg/L，远超地方排污要求（10mg/L下面的）。 污水成份及种类 废水处理工艺主耍源自3个流程： 晶圆蚀刻道工序 ：含高溶液浓度氟化物（HF）、氰化钠及少量的巨资属 电化学设备拋光（CMP）焦化废水 ：含纳米技术级硅科粒、设计络合剂 设施设备冲洗生活污水 ：含异丙醇、化学需氧量等充分物 解决工艺设计流量 利用"化学式积累自己+混泥土积累自己+厚度脱水"3级整理体统： 三级净化处理 ：加药系统氯化钙和氢氧化反应钙，形成了氟化钙积累，氟化物出掉率达85% 2级补救 ：增加PAC（聚合反应氯化铝）和PAM（PP酰胺），取除电解质溶液态污染问题物 三级考试处里 ：利用多媒质过滤水器和化学活化炭离心分离，留水氟化物溶度固定在8mg/L下面 首要生产设备有：pH自行调高系统性、斜管乳浊液池、板框压滤设备（污水脱干）。 最后感觉 好项目启动五年评估数据屏幕上显示屏幕上显示： 氟化物差不多含量：7.2mg/L（如果低于地区标准单位） COD剔除率：92% 工业废水水分含量率：≤65% 年回收分类处理氟化钙副新产品约150吨，保证 能源化回收利用