某光电器件制作业品牌因晶圆难以清理步骤带来含氨废气，容量200吨/天。废气中除化学需氧量外还有氟化物和少量巨资属，处置难易大。本市排放条件条件规范要求化学需氧量＜5mg/L，氟化物＜3mg/L。 电镀废水含量及原因 晶圆除污废水处理（包括源头）：含高锰酸盐指数200-300mg/L，氟化物50-80mg/L 刻蚀制作工序化工废水：含进样器铜、镍等高价属，pH值跌涨大 CMP研磨抛光废污水：含硅颗料及氯离子 治理 技艺步奏 用"催化奠定+膜剥离 +折点氯化"组和工艺技术： 预加工处理 ：加药系统CaCl2除氟，设定pH在7.5-8. 超滤膜装置 ：除掉0.01μm这些小型颗粒物物 ro反渗透性和高浓 ：将氯离子浓缩造成至1000mg/L上述 折点氯化 ：准确掌握氯加药系统量，将氧化还原电位转换成为惰性气体 铁离子对换 ：有效保障天价属符合标准 然后特效 氟化物不稳定性＜3mg/L，氟化物＜1mg/L 天价属纯度如果低于检查限 水工业废水处理率达75% 污泥处理引发量减掉40%