上海市某半导体设备集成块加工生产加工生产厂，晶圆加工生产流程中引起含硅、氟的非常规废污水治理方式，设汁治理面积1200吨/日。废污水治理方式成分表较为复杂，所含奈米级硅颗料及氢佛酸，一般治理方式没办法及格。 化工废水部分及来自 最主要的环保问题物 ：溶液硅（100-500nm粒级）、氟阴阳离子（200-300mg/L）、异丙醇 来自繁琐流程 ：晶圆刻蚀污焦化废水 （45%）、CMP有机化学机械仪器制造抛光剂污焦化废水 （40%）、仪器清洗阴道水（15%） 进行处理加工制作工艺 具体流程 不断创新利用"催化沉积+防化膜分离法"技术工艺路线地图： 钙盐乳浊液 ：污泥脱水氯化钙的还原氟铁离子（产生CaF2放置） 水解酸化池表现 ：混合斜管沉淀池剂进行悬浊液硅脱稳 管式微滤 ：0.1μm直径膜截流微细颗粒状 反参透系统的 ：脱盐率>98%，回收分类处理率75% 多效蒸发晶体 ：浓水段构建氟化物无废气排放出 然后效率 氟化物密度：<8mg/L（降到欧洲国家1级标准10mg/L） 硅含锌量：<5mg/L 水成本回收率：70%应用在冷凝塔保湿补水 垃圾回收利用：化掉沉渣量较传统性工艺流程下降60%